摘要：為研究氮化硅微金字塔結(jié)構(gòu)化薄膜的分光特性,使用單點(diǎn)金剛石切削制備微金字塔結(jié)構(gòu),結(jié)合納米壓印技術(shù)制備氮化硅微金字塔結(jié)構(gòu)薄膜,對(duì)其透射率與散射進(jìn)行檢測(cè)。通過(guò)對(duì)底面角度可變的氮化硅微金字塔結(jié)構(gòu)化薄膜的近場(chǎng)光場(chǎng)分布展開(kāi)仿真分析與實(shí)驗(yàn)研究,基于射線追蹤方法建立數(shù)值仿真模型分析結(jié)構(gòu)化薄膜的近場(chǎng)光場(chǎng)分布。研究結(jié)果表明:通過(guò)調(diào)整切削方向?qū)崿F(xiàn)對(duì)微金字塔結(jié)構(gòu)陣列底面角度0°~90°的控制,檢測(cè)結(jié)果證明薄膜光學(xué)微金字塔結(jié)構(gòu)化薄膜可以實(shí)現(xiàn)對(duì)光束傳播方向與能量分布的調(diào)制,改變微金字塔結(jié)構(gòu)的底面角度,可以讓光波按照底角的設(shè)計(jì)傳播,這一現(xiàn)象為微光電系統(tǒng)的光路設(shè)計(jì)提供了更廣的自由度。