摘要：為研究導(dǎo)流塊深度對(duì)圓弧形凹面腔內(nèi)徑向入射激波聚焦過程的影響,對(duì)馬赫數(shù)為1.4的徑向入射激波在導(dǎo)流塊深度分別為0、5、10、15、17.5、20、25 mm的凹面腔內(nèi)反射聚焦過程進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究。用高速CCD拍攝了圓弧形凹面腔中氣流流場(chǎng)紋影照片,并用動(dòng)態(tài)壓力傳感器測(cè)量了聚焦過程中流場(chǎng)的壓力變化,對(duì)徑向入射激波在凹面腔內(nèi)的反射聚焦過程進(jìn)行了描述。通過對(duì)比不同導(dǎo)流塊深度下激波反射聚焦過程,發(fā)現(xiàn)隨著導(dǎo)流塊深度的增加,凹面腔出口寬度減少,氣流的排出受到限制,導(dǎo)致凹面腔內(nèi)部的湍流度增強(qiáng),由于受到湍流的較強(qiáng)影響,內(nèi)部激波結(jié)構(gòu)減弱,從而對(duì)于激波聚焦產(chǎn)生高溫高壓區(qū)產(chǎn)生影響,不利于激波觸發(fā)爆震。